رفتن به نوشته‌ها

دانلود پاورپوینت کامل و جامع با عنوان فرآیند اچینگ (زدایش) یا حکاکی شیمیایی در میکروالکترونیک در 19 اسلاید

پاورپوینت کامل و جامع با عنوان فرآیند اچینگ (زدایش) یا حکاکی شیمیایی در میکروالکترونیک در 19 اسلاید

پاورپوینت کامل و جامع با عنوان فرآیند اچینگ (زدایش) یا حکاکی شیمیایی در میکروالکترونیک در 19 اسلاید

 

اچینگ یا حکاکی شیمیایی (Etching) فرایندی شیمیایی در میکروساخت است که برای حذف لایه‌هایی از سطح ویفرها مورد استفاده قرار می‌گیرد. اچینگ یک فرایند فوق حیاتی در ساخت ویفرهاست و هر ویفر قبل از آماده شدن چندین مرتبه «اچ» می‌شود. اچینگ در حقیقت نوعی فرایند لایه برداری دقیق به کمک مواد شیمیایی خورنده است.

 

فهرست مطالب:

تعریف فرآیند اچینگ یا زدایش

استفاده از فتورزیست

اصول کلی

مزایا و معایب

قابل گزینش بودن

بایاس و حالت های ایزوترپیک و غیر ایزوتروپیک

تکنولوژی و محیط اچینگ

اچینگ مرطوب

اچینگ غیر ایزوتروپیک

اچینگ پلاسما

مواد مورد استفاده در میکروالکترونیک و خورنده مورد نیاز برای اچینگ آنها

و…

 

 

منتشر شده در مهندسی

اولین باشید که نظر می دهید

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *